Radiofrequency reactive magnetron sputtering of bismuth in an Ar/O2/CF4 plasma for photocatalytic applications. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Radiofrequency reactive magnetron sputtering of bismuth in an Ar/O2/CF4 plasma for photocatalytic applications.

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02500636 , version 1 (06-03-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02500636 , version 1

Citer

S. Ibrahim, A. Bousquet, P. Bonnet, E. Tomasella, M. Sarakha, et al.. Radiofrequency reactive magnetron sputtering of bismuth in an Ar/O2/CF4 plasma for photocatalytic applications.. Plathinium, Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02500636⟩
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