Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
Stéphanie Bonnefoy : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02500636
Soumis le : vendredi 6 mars 2020-11:18:54
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02500636 , version 1
Citer
S. Ibrahim, A. Bousquet, P. Bonnet, E. Tomasella, M. Sarakha, et al.. Radiofrequency reactive magnetron sputtering of bismuth in an Ar/O2/CF4 plasma for photocatalytic applications.. Plathinium, Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02500636⟩
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