Influence of the Geometric Parameters on the Deposition Mode in Spatial Atomic Layer Deposition: A Novel Approach to Area-Selective Deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Coatings Année : 2019

Influence of the Geometric Parameters on the Deposition Mode in Spatial Atomic Layer Deposition: A Novel Approach to Area-Selective Deposition

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hal-02428220 , version 1 (19-11-2020)

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Citer

César Masse de La Huerta, Viet Nguyen, Jean-Marc Dedulle, Daniel Bellet, Carmen Jimenez, et al.. Influence of the Geometric Parameters on the Deposition Mode in Spatial Atomic Layer Deposition: A Novel Approach to Area-Selective Deposition. Coatings, 2019, 9 (1), pp.5. ⟨10.3390/coatings9010005⟩. ⟨hal-02428220⟩
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