Communication Dans Un Congrès Année : 2019

Relationship Processing–Composition–Structure–Resistivity of LaNiO3 Thin Films Grown by Chemical Vapor Deposition_Methods

Domaines

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02405069 , version 1 (11-12-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02405069 , version 1

Citer

Sabina Kuprenaite, Vincent Astié, Samuel Margueron, Cyril Millon, Jean Decams, et al.. Relationship Processing–Composition–Structure–Resistivity of LaNiO3 Thin Films Grown by Chemical Vapor Deposition_Methods. EuroCVD 22 - Baltic ALD 16, Jun 2019, Luxembourg, Luxembourg. ⟨hal-02405069⟩
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