Pulsed-DC reactive magnetron sputtering process for the deposition of solid oxide electrochemical cell layers - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02394285 , version 1 (04-12-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02394285 , version 1

Citer

Pierre-Laurent Coddet, Martin Mickan, Julien Vuillet, Amael Caillard, Thierry Sauvage, et al.. Pulsed-DC reactive magnetron sputtering process for the deposition of solid oxide electrochemical cell layers. 24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 24), Jun 2019, Naples, France. ⟨hal-02394285⟩
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