Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2018
Raffaele Colombelli : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02364767
Soumis le : vendredi 15 novembre 2019-10:19:46
Dernière modification le : samedi 20 avril 2024-03:31:13
Citer
P.B. Vigneron, F. Joint, N. Isac, R. Colombelli, E. Herth. Advanced and reliable GaAs/AlGaAs ICP-DRIE etching for optoelectronic, microelectronic and microsystem applications. Microelectronic Engineering, 2018, 202, pp.42-50. ⟨10.1016/j.mee.2018.09.001⟩. ⟨hal-02364767⟩
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