Sub-10 nm Block Copolymer Lithography: Sequential Infiltration Synthesis into Poly(Styrene)-block-Maltoheptaose - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2019

Sub-10 nm Block Copolymer Lithography: Sequential Infiltration Synthesis into Poly(Styrene)-block-Maltoheptaose

Anette Löfstrand
Dmitry B. Suyatin
  • Fonction : Auteur
Nicklas Nilsson
  • Fonction : Auteur
Issei Otsuka
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
A. Kvennefors
  • Fonction : Auteur
J. Ring
  • Fonction : Auteur
Redouane Borsali
Centre de Recherches sur les Macromolécules Végétales
Ivan Maximov
  • Fonction : Auteur

Domaines

Polymères Génie des procédés Matériaux

Issei Otsuka  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02352917

Soumis le : jeudi 7 novembre 2019-09:51:59

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02352917 , version 1 (07-11-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02352917 , version 1

Citer

Anette Löfstrand, Dmitry B. Suyatin, Nicklas Nilsson, Issei Otsuka, A. Kvennefors, et al.. Sub-10 nm Block Copolymer Lithography: Sequential Infiltration Synthesis into Poly(Styrene)-block-Maltoheptaose. The 5th DSA Symposium, Oct 2019, Milan, Italy. ⟨hal-02352917⟩

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