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Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Synchronous Plasma Pulsing for Etch Applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02339989 , version 1 (30-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02339989 , version 1

Citer

Moritz Haass, Maxime Darnon, Erwine Pargon, Camille Petit-Etienne, Laurent Vallier, et al.. Synchronous Plasma Pulsing for Etch Applications. 3rd Plasma Etch and Strip in Microelectronics Workshop, Mar 2019, Grenoble, France. ⟨hal-02339989⟩
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