Interaction Plasma/Dielectric - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Chapitre D'ouvrage Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02339227 , version 1 (30-10-2019)

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Citer

Nicolas Posseme, Maxime Darnon, Thierry Chevolleau, Thibaut David. Interaction Plasma/Dielectric. Plasma Etching Processes for Interconnect Realization in VLSI, Elsevier, pp.15-43, 2015, ⟨10.1016/B978-1-78548-015-7.50002-0⟩. ⟨hal-02339227⟩
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