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Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Pulsed Plasmas for etching in micro and nanoelectronics

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02338129 , version 1 (29-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02338129 , version 1

Citer

Maxime Darnon, Gilles Cunge, Camille Petit-Etienne, Moritz Haass, Paul Bodart, et al.. Pulsed Plasmas for etching in micro and nanoelectronics. Plasma Nanoscience Conference, Mar 2014, Dublin, Ireland. ⟨hal-02338129⟩

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CEA UGA CNRS LTM
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