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Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Leakage current conduction mechanisms in atomic layer deposited HfO2, ZrO2 and Al2O3 on O-terminated diamond

G Chicot
  • Fonction : Auteur
N Rouger
P Muret
  • Fonction : Auteur
J Pernot
  • Fonction : Auteur
E Gheeraert
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02329087 , version 1 (23-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02329087 , version 1

Citer

A Marechal, G Chicot, N Rouger, P Muret, J Pernot, et al.. Leakage current conduction mechanisms in atomic layer deposited HfO2, ZrO2 and Al2O3 on O-terminated diamond. International Conference on Diamond and Carbon Materials, 2014, Seville, Spain. ⟨hal-02329087⟩

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