Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H2/N2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2012

Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H2/N2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma

Simon Bulou
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 769030
  • IdRef : 150635494
Ludovic de Poucques
Jamal Bougdira
Mohammed Belmahi

Domaines

Plasmas

Dates et versions

hal-02314413 , version 1 (14-10-2019)

Identifiants

Citer

Simon Bulou, Laurent Le Brizoual, Patrice Miska, Ludovic de Poucques, Jamal Bougdira, et al.. Wide variations of SiCxNy:H thin films optical constants deposited by H2/N2/Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma. Surface and Coatings Technology, 2012, 208, pp.46-50. ⟨10.1016/j.surfcoat.2012.07.079⟩. ⟨hal-02314413⟩
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