Cryogenic ALE of silicon oxide - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2017
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02306057 , version 1 (04-10-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02306057 , version 1

Citer

Nicolas Holtzer, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart. Cryogenic ALE of silicon oxide. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, Oct 2017, Leuven, Belgium. ⟨hal-02306057⟩
7 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More