Photopolymerization kinetics, photorheology and photoplasticity of thiol–ene–allylic sulfide networks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Polymer international Année : 2008

Dates et versions

hal-02294588 , version 1 (23-09-2019)

Identifiants

Citer

Wayne Cook, Sophie Chausson, Fei Chen, Loïc Le Pluart, Christopher Bowman, et al.. Photopolymerization kinetics, photorheology and photoplasticity of thiol–ene–allylic sulfide networks. Polymer international, 2008, 57 (3), pp.469-478. ⟨10.1002/pi.2357⟩. ⟨hal-02294588⟩
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