Role of stress on the parabolic kinetic constant for dry silicon oxidation - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 1984

Role of stress on the parabolic kinetic constant for dry silicon oxidation

A. Fargeix
  • Fonction : Auteur
G. Ghibaudo
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02114086 , version 1 (29-04-2019)

Identifiants

Citer

A. Fargeix, G. Ghibaudo. Role of stress on the parabolic kinetic constant for dry silicon oxidation. Journal of Applied Physics, 1984, 56 (2), pp.589-591. ⟨10.1063/1.333924⟩. ⟨hal-02114086⟩

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