Nanoscale damascene processes for patterning and devices fabrication - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2017
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02096905 , version 1 (11-04-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02096905 , version 1

Citer

S. Ecoffey, D. Drouin. Nanoscale damascene processes for patterning and devices fabrication. SPIE Advanced Lithography, Feb 2017, San José, United States. ⟨hal-02096905⟩
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