Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Frédéric Martinez : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02066806
Soumis le : mercredi 13 mars 2019-16:41:25
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:10
Citer
T. Nguyen, M. Valenza, Frédéric Martinez, Guillaume Neau, J.-C. Vildeuil, et al.. Gate and drain low frequency noise in HfO2 NMOSFETs. International Conference on Noise and Fluctuations, 2005, Salamanca (Spain), Spain. pp.235-238, ⟨10.1063/1.2036739⟩. ⟨hal-02066806⟩
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