Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Frédéric Martinez : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02066777
Soumis le : mercredi 13 mars 2019-16:24:03
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:10
Citer
Frédéric Martinez, C Leyris, Matteo Valenza, Alain Hoffmann, F Boeuf, et al.. Effect of Oxide Thickness and Nitridation Process on PMOS Gate and Drain Low Frequency Noise. International Conference on Noise and Fluctuations, 2005, Salamanca (Spain), Spain. pp.323-326, ⟨10.1063/1.2036760⟩. ⟨hal-02066777⟩
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