Diffusion and trapping of implanted hydrogen in a Si/Si:B/Si structure - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Science in Semiconductor Processing Année : 2017
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Dates et versions

hal-02061855 , version 1 (08-03-2019)

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Citer

A. Royal, F. Mazen, F. Gonzatti, M. Veillerot, Alain Claverie. Diffusion and trapping of implanted hydrogen in a Si/Si:B/Si structure. Materials Science in Semiconductor Processing, 2017, 67, pp.118-123. ⟨10.1016/j.mssp.2017.05.025⟩. ⟨hal-02061855⟩
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