Article Dans Une Revue
Materials Science in Semiconductor Processing
Année : 2017
alain claverie : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02061855
Soumis le : vendredi 8 mars 2019-13:32:48
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:11
Citer
A. Royal, F. Mazen, F. Gonzatti, M. Veillerot, Alain Claverie. Diffusion and trapping of implanted hydrogen in a Si/Si:B/Si structure. Materials Science in Semiconductor Processing, 2017, 67, pp.118-123. ⟨10.1016/j.mssp.2017.05.025⟩. ⟨hal-02061855⟩
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