Article Dans Une Revue
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Année : 2016
Frédéric Garet : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02025168
Soumis le : mardi 19 février 2019-15:35:29
Dernière modification le : jeudi 20 juin 2024-12:23:43
Citer
Nacer Zine El Abidine, Frank Sundermann, Emek Yesilada, Vincent Farys, Frederic Huguennet, et al.. Accurate mask model implementation in optical proximity correction model for 14-nm nodes and beyond. Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS, 2016, 15 (2), pp.021011. ⟨10.1117/1.jmm.15.2.021011⟩. ⟨hal-02025168⟩
21
Consultations
0
Téléchargements