In-situ synchrotron analysis of the very first ALD growth steps of ZnO on a-SiO2 and c-plane Al2O3
R. Boichot
(1)
,
A. Crisci
(1)
,
S. Lay
(1)
,
E. Blanquet
(1)
,
L. Tian
(1)
,
A. Shaker
,
Hubert Renevier
(2)
,
V. Cantelli
(2)
,
D. De Barros
,
M. I. Richard
(3)
,
T. Ouled
(3)
,
G. Ciatto
(4)
,
M.H. Chu
,
D. Fong
,
S. Coindeau
(5)
,
J.L. Deschanvres
(2)
E. Blanquet
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A. Shaker
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Hubert Renevier
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D. De Barros
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M.H. Chu
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D. Fong
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J.L. Deschanvres
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