Influence of the cleaning process of the electrodes in an rf (13.56 MHz) methane plasma - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2018
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01978284 , version 1 (11-01-2019)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01978284 , version 1

Citer

William Desdions, Isabelle Géraud-Grenier, Maxime Mikikian, Véronique Massereau-Guilbaud. Influence of the cleaning process of the electrodes in an rf (13.56 MHz) methane plasma. Workshop "Plasma surface interaction for technological applications", Jun 2018, Kiel, Germany. ⟨hal-01978284⟩
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