Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2018
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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-01947862
Soumis le : vendredi 7 décembre 2018-11:38:30
Dernière modification le : jeudi 18 avril 2024-12:45:31
Citer
Vahagn Martirosyan, Emilie Despiau-Pujo, Jérôme Dubois, Gilles Cunge, Olivier Joubert. Helium plasma modification of Si and Si 3 N 4 thin films for advanced etch processes. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2018, 36 (4), pp.041301. ⟨10.1116/1.5025152⟩. ⟨hal-01947862⟩
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