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Article Dans Une Revue Applied Physics Letters Année : 2012

Evaluation and modeling of lanthanum diffusion in TiN/La2O3/HfSiON/SiO2/Si high-k stacks

Résumé

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hal-01921905 , version 1 (27-05-2022)

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Citer

Zahi Essa, Clement Gaumer, Ardechir Pakfar, Mickael Gros-Jean, Marc Juhel, et al.. Evaluation and modeling of lanthanum diffusion in TiN/La2O3/HfSiON/SiO2/Si high-k stacks. Applied Physics Letters, 2012, 101 (18), pp.182901. ⟨10.1063/1.4764558⟩. ⟨hal-01921905⟩
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