Effect of post-deposition thermal treatment on thermoelectric properties of pulsed-laser deposited Ca3Co4O9 thin films - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Materials Chemistry and Physics Année : 2019

Effect of post-deposition thermal treatment on thermoelectric properties of pulsed-laser deposited Ca3Co4O9 thin films

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Eric Millon  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01895867

Soumis le : lundi 15 octobre 2018-15:33:50

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-18:28:03

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Dates et versions

hal-01895867 , version 1 (15-10-2018)

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Citer

Vincent Rogé, Fabian Delorme, Arnaud Stolz, Abderazek Talbi, Nadjib Semmar, et al.. Effect of post-deposition thermal treatment on thermoelectric properties of pulsed-laser deposited Ca3Co4O9 thin films. Materials Chemistry and Physics, 2019, 221, pp.361 - 366. ⟨10.1016/j.matchemphys.2018.09.069⟩. ⟨hal-01895867⟩

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