New chemical etching procedures of antimonide-based materials for infrared detectors - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01828306 , version 1 (03-07-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01828306 , version 1

Citer

R. Chaghi, C. Cervera, H. Aït-Kaci, P. Grech, Y. Cuminal, et al.. New chemical etching procedures of antimonide-based materials for infrared detectors. 2d International Meeting on Materials for Electronic Applications, 2009, Hammamet, Tunisia. ⟨hal-01828306⟩
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