Silicon etching using CW, synchronized pulsed and bias pulsed Cl2 plasma
Odile Mourey
(1)
,
C. Petit-Etienne
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
M. Darnon
(1)
,
E. Despiau-Pujo
(1)
,
P. Brichon
(1)
,
E. Latu-Romain
(1)
,
O. Joubert
(1)
,
M. Pons
(1)
C. Petit-Etienne
- Fonction : Auteur
- PersonId : 745766
- IdHAL : camille-petit-etienne
M. Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
E. Despiau-Pujo
- Fonction : Auteur
- PersonId : 754756
- IdHAL : emilie-despiau-pujo
- ORCID : 0000-0002-7761-6343
- IdRef : 142894265
M. Pons
- Fonction : Auteur
- PersonId : 174847
- IdHAL : michel-pons
- ORCID : 0000-0002-5833-6063
- IdRef : 077856112