Silicon etching using CW, synchronized pulsed and bias pulsed Cl2 plasma - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01798348 , version 1 (23-05-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01798348 , version 1

Citer

Odile Mourey, C. Petit-Etienne, G. Cunge, M. Darnon, E. Despiau-Pujo, et al.. Silicon etching using CW, synchronized pulsed and bias pulsed Cl2 plasma. AVS 2014, , 2014, Baltimore, United States. ⟨hal-01798348⟩

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