Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01798099
Soumis le : mercredi 23 mai 2018-10:38:48
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:37
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01798099 , version 1
Citer
C. Chanson, E. Pargon, M. Darnon, C. Petit Etienne, M. Foucher, et al.. Reactor wall plasma cleaning processes after InP etching in Cl2/CH4/Ar ICP discharge. Plasma Etch and Strip in Microelectronics (PESM), 7th International Workshop, May 2014, grenoble, France. ⟨hal-01798099⟩
65
Consultations
0
Téléchargements