Phosphorous diffusion through silicon nitride thin film for selective emitter application - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue physica status solidi (c) Année : 2012

Phosphorous diffusion through silicon nitride thin film for selective emitter application

Domaines

Electronique

Dates et versions

hal-01791393 , version 1 (14-05-2018)

Identifiants

Citer

Laurent Crampette, Gilles Poulain, Yvan Cuminal, Alain Foucaran, Yvon Pellegrin, et al.. Phosphorous diffusion through silicon nitride thin film for selective emitter application. physica status solidi (c), 2012, 9 (10-11), pp.2131 - 2133. ⟨10.1002/pssc.201200229⟩. ⟨hal-01791393⟩
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