Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Isabelle Labau : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01763083
Soumis le : mardi 10 avril 2018-16:53:24
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01763083 , version 1
Citer
Nikolay Cherkashin, Nabil Daghbouj, Alain Claverie. Sequential He++H+ ion implantation in silicon: factors affecting blistering”. 4th International Conference On Nano Structuring by Ion Beam (ICNIB 2017), Oct 2017, Indore, India. ⟨hal-01763083⟩
Collections
152
Consultations
0
Téléchargements