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Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Effect of ions presence in the SiOCH inter metal dielectric structure

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01760568 , version 1 (06-04-2018)

Identifiants

Citer

B. Rebuffat, V. Della Marca, P. Masson, L. Ogier, M. Mantelli, et al.. Effect of ions presence in the SiOCH inter metal dielectric structure. ESSDERC 2013 - 43rd European Solid State Device Research Conference, Sep 2013, Bucharest, France. ⟨10.1109/ESSDERC.2013.6818858⟩. ⟨hal-01760568⟩
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