Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2013
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Dates et versions

hal-01757218 , version 1 (03-04-2018)

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Citer

Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Tetsuya Hajiri, Shin-Ichi Kimura, Joe Sakai. Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates. Journal of Applied Physics, 2013, 113 (16), pp.163503. ⟨10.1063/1.4802652⟩. ⟨hal-01757218⟩
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