Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2013
Christophe THIBAULT : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01757218
Soumis le : mardi 3 avril 2018-15:15:25
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:07
Citer
Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Tetsuya Hajiri, Shin-Ichi Kimura, Joe Sakai. Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates. Journal of Applied Physics, 2013, 113 (16), pp.163503. ⟨10.1063/1.4802652⟩. ⟨hal-01757218⟩
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