Innovative Photocatalytic TiO2 Membranes by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) for Water Treatment Technology - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Innovative Photocatalytic TiO2 Membranes by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) for Water Treatment Technology

M. Zhou
S. Roualdes
V. Filab
  • Fonction : Auteur
J. Krysab
  • Fonction : Auteur
E. Fontananova
  • Fonction : Auteur
E. Drioli
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01703291 , version 1 (07-02-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01703291 , version 1

Citer

M. Zhou, S. Roualdes, A. Ayral, V. Filab, J. Krysab, et al.. Innovative Photocatalytic TiO2 Membranes by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) for Water Treatment Technology. 4th International Conference of Semiconductor Photochemistry – SP4, Jun 2013, Prague, Czech Republic. ⟨hal-01703291⟩
39 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More