Article Dans Une Revue
Scientific Reports
Année : 2018
Rémi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01696587
Soumis le : mardi 30 janvier 2018-15:13:48
Dernière modification le : mardi 27 août 2024-12:48:33
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01696587 , version 1
- DOI : 10.1038/s41598-018-20099-5
- PUBMEDCENTRAL : PMC5789876
Citer
Romain Chanson, Liping Zhang, Sergej Naumov, Yuri Mankelevich, Thomas Tillocher, et al.. Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C. Scientific Reports, 2018, 8, pp.1886. ⟨10.1038/s41598-018-20099-5⟩. ⟨hal-01696587⟩
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