Procédé de Dépôt d'un revetêment par DLI-MOCVD avec recyclage du composé précurseur
Résumé
Procédé de dépôt chimique en phase vapeur sur un substrat d'un revêtement protecteur composé d'au moins une couche protectrice comprenant un métal de transition M: a) disposer dans un réservoir d'alimentation une solution mère contenant un solvant hydrocarboné dépourvu d'atome d'oxygène et un précurseur de type bis(arène) contenant le métal de transition M à déposer, b) vaporiser ladite solution mère et l'introduire dans un réacteur de CVD pour réaliser le dépôt de la couche protectrice sur ledit substrat et le cas échéant un inhibiteur d'incorporation de carbone, c) collecter en sortie du réacteur une fraction de l'effluent gazeux comprenant le précurseur non consommé, les sous-produits aromatiques du précurseur et le solvant, ces espèces formant ensemble une solution fille, et d) déverser la solution fille ainsi obtenue dans le réservoir d'alimentation pour obtenir une nouvelle solution mère apte à être utilisée à l'étape a)