Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
Laurent Catoire : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01665675
Soumis le : samedi 16 décembre 2017-16:00:19
Dernière modification le : lundi 5 août 2024-14:50:04
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01665675 , version 1
Citer
L. Catoire, Mark T. Swihart. High-Temperature Kinetics of AlCl3 Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition . Second International Symposium on Fundamental Gas-Phase and Surface Chemistry of Vapor-Phase Deposition, 199th Meeting of the Electrochemical Society, 2001, Washington, DC, United States. ⟨hal-01665675⟩
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