Effect of the target temperature during magnetron sputtering of Nickel - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2018
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Dates et versions

hal-01634664 , version 1 (14-11-2017)

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Citer

Amael Caillard, Mariem El’mokh, Thomas Lecas, Anne-Lise Thomann. Effect of the target temperature during magnetron sputtering of Nickel. Vacuum, 2018, 147, pp.82 - 91. ⟨10.1016/j.vacuum.2017.10.016⟩. ⟨hal-01634664⟩
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