Poly (dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate): A Promising Candidate for Sub-10 nm Patterning
Résumé
no abstract
Damien Montarnal : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01634066
Soumis le : lundi 13 novembre 2017-16:36:10
Dernière modification le : mardi 29 novembre 2022-12:02:06