Poly (dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate): A Promising Candidate for Sub-10 nm Patterning - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Macromolecules Année : 2015
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Dates et versions

hal-01634066 , version 1 (13-11-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01634066 , version 1

Citer

Yingdong Luo, Damien Montarnal, Sangwon Kim, Weichao Shi, Katherine P Barteau, et al.. Poly (dimethylsiloxane-b-methyl methacrylate): A Promising Candidate for Sub-10 nm Patterning. Macromolecules, 2015, 48 (11), pp.3422--3430. ⟨hal-01634066⟩
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