Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Rémi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01577611
Soumis le : samedi 26 août 2017-19:43:09
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:05
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01577611 , version 1
Citer
Mukesh Kulsreshath, Christophe Sinturel, Philippe Lefaucheux, Marylène Vayer, Thomas Tillocher, et al.. Cryogenic etching applied to the realization of high density capacitor with a homopolymer mask. 21th International Colloquium on Plasma Processes, Jun 2017, Nice, France. ⟨hal-01577611⟩
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