Dynamical characterization of electroless deposition in the diffusion-limited regime - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Fractals Année : 1997

Dynamical characterization of electroless deposition in the diffusion-limited regime

Françoise Argoul
A. Arneodo
A. Kuhn

Résumé

no abstract
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01556982 , version 1 (05-07-2017)

Identifiants

Citer

Françoise Argoul, A. Arneodo, J. Elezgaray, A. Kuhn. Dynamical characterization of electroless deposition in the diffusion-limited regime. Fractals, 1997, 5 (1), pp.75-86. ⟨10.1142/s0218348x97000085⟩. ⟨hal-01556982⟩

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