Deposition of a-Si:H thin films using tailored voltage waveform plasmas: impact on microstructure and stability - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue physica status solidi (c) Année : 2016

Deposition of a-Si:H thin films using tailored voltage waveform plasmas: impact on microstructure and stability

Jk Wang
  • Fonction : Auteur
F Ventosinos
  • Fonction : Auteur
D Daineka
  • Fonction : Auteur
M El Yaakoubi
  • Fonction : Auteur
Ev Johnson
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-01535739 , version 1 (09-06-2017)

Identifiants

Citer

Jk Wang, Christophe Longeaud, F Ventosinos, D Daineka, M El Yaakoubi, et al.. Deposition of a-Si:H thin films using tailored voltage waveform plasmas: impact on microstructure and stability. physica status solidi (c), 2016, 13 (10-12), pp.735-739. ⟨10.1002/pssc.201600024⟩. ⟨hal-01535739⟩
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