Article Dans Une Revue
physica status solidi (c)
Année : 2016
christophe longeaud : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01535739
Soumis le : vendredi 9 juin 2017-13:57:52
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:04
Citer
Jk Wang, Christophe Longeaud, F Ventosinos, D Daineka, M El Yaakoubi, et al.. Deposition of a-Si:H thin films using tailored voltage waveform plasmas: impact on microstructure and stability. physica status solidi (c), 2016, 13 (10-12), pp.735-739. ⟨10.1002/pssc.201600024⟩. ⟨hal-01535739⟩
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