IR emission and electrical conductivity of Nd/Nb-codoped TiOx(1.5 < x < 2) thin films grown by pulsed-laser deposition - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2016

IR emission and electrical conductivity of Nd/Nb-codoped TiOx(1.5 < x < 2) thin films grown by pulsed-laser deposition

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

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https://hal.science/hal-01355097

Soumis le : lundi 22 août 2016-12:12:46

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Dates et versions

hal-01355097 , version 1 (22-08-2016)

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Citer

Cyril Tchiffo-Tameko, Christophe Cachoncinlle, Jacques Perriere, Magda Nistor, Agnes Petit, et al.. IR emission and electrical conductivity of Nd/Nb-codoped TiOx(1.5 < x < 2) thin films grown by pulsed-laser deposition. Applied Surface Science, 2016, 389, pp.1062-1068. ⟨10.1016/j.apsusc.2016.07.128⟩. ⟨hal-01355097⟩

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