Reduction of plasma induced damage of porous low-k materials using a cryogenic etching process
Thomas Tillocher
(1)
,
Floriane Leroy
(1)
,
Liping Zhang
(2)
,
Philippe Lefaucheux
(1)
,
Koichi Yatsuda
(3)
,
Kaoru Maekawa
(3)
,
Jean-Francois de Marneffe
(2)
,
Mikhail Baklanov
(2)
,
Remi Dussart
(1)
Thomas Tillocher
- Fonction : Auteur
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- IdHAL : thomas-tillocher
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Floriane Leroy
- Fonction : Auteur
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Philippe Lefaucheux
- Fonction : Auteur
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Remi Dussart
- Fonction : Auteur
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- IdHAL : remi-dussart