Article Dans Une Revue
Journal of The Electrochemical Society
Année : 2002
Laurent Catoire : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01221159
Soumis le : mardi 27 octobre 2015-15:01:08
Dernière modification le : lundi 5 août 2024-14:50:04
Citer
L. Catoire, Mark T. Swihart. High-Temperature Kinetics of AlCl[sub 3] Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition. Journal of The Electrochemical Society, 2002, 149 (5), ⟨10.1149/1.1467366⟩. ⟨hal-01221159⟩
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