Plasma Cryogenic Etching: from 3D Integration to Low-k Materials - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2015
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01151533 , version 1 (13-05-2015)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01151533 , version 1

Citer

Thomas Tillocher, Remi Dussart, Floriane Leroy, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. Plasma Cryogenic Etching: from 3D Integration to Low-k Materials. China Semiconductor Technology International Conference, Mar 2015, Shanghai, China. ⟨hal-01151533⟩
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