Communication Dans Un Congrès
Année : 2015
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01151533
Soumis le : mercredi 13 mai 2015-09:01:58
Dernière modification le : lundi 19 février 2024-16:15:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01151533 , version 1
Citer
Thomas Tillocher, Remi Dussart, Floriane Leroy, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, et al.. Plasma Cryogenic Etching: from 3D Integration to Low-k Materials. China Semiconductor Technology International Conference, Mar 2015, Shanghai, China. ⟨hal-01151533⟩
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