Communication Dans Un Congrès
Année : 2015
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01151530
Soumis le : mercredi 13 mai 2015-08:55:29
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:00
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01151530 , version 1
Citer
Stefan Tinck, Erik Neyts, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Annemie Bogaerts. Cryogenic Etching of Silicon with SF6/O2/SiF4 plasmas: a modeling and experimental study. Plasma Etch and Strip in Microtechnology, Apr 2015, Leuven, Belgium. ⟨hal-01151530⟩
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