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Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Plasma cryoetching processes for silicon and advanced materials

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01057585 , version 1 (24-08-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01057585 , version 1

Citer

Remi Dussart, Thomas Tillocher, Nicolas Gosset, Alexane Vital, Philippe Lefaucheux, et al.. Plasma cryoetching processes for silicon and advanced materials. International Conference on Microelectronics and Plasma Technology, Jul 2014, Gunsan, South Korea. ⟨hal-01057585⟩
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