Plasma cryoetching processes for silicon and advanced materials
Remi Dussart
(1)
,
Thomas Tillocher
(1)
,
Nicolas Gosset
(2)
,
Alexane Vital
(2, 3)
,
Philippe Lefaucheux
(2)
,
Rami Ljazouli
(2)
,
Mohamed Boufnichel
(4)
,
Marylène Vayer
(3)
,
Christophe Sinturel
(3)
,
Liping Zhang
(5)
,
Jean-Francois de Marneffe
(5)
,
Mikhail Baklanov
(5)
,
E. Nishimura
,
Koichi Yatsuda
,
Kaoru Maekawa
Remi Dussart
- Fonction : Auteur
- PersonId : 4419
- IdHAL : remi-dussart
Thomas Tillocher
- Fonction : Auteur
- PersonId : 7479
- IdHAL : thomas-tillocher
- ORCID : 0000-0002-9160-5595
- IdRef : 120339072
Nicolas Gosset
- Fonction : Auteur
- PersonId : 942269
Philippe Lefaucheux
- Fonction : Auteur
- PersonId : 874204
Marylène Vayer
- Fonction : Auteur
- PersonId : 751593
- IdHAL : marylene-vayer
Christophe Sinturel
- Fonction : Auteur
- PersonId : 751459
- IdHAL : christophe-sinturel
- ORCID : 0000-0002-9528-2797
- IdRef : 167089854
E. Nishimura
- Fonction : Auteur
Koichi Yatsuda
- Fonction : Auteur
Kaoru Maekawa
- Fonction : Auteur