Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00944979
Soumis le : mardi 11 février 2014-15:11:54
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:22:33
Citer
T. Chevolleau, G. Cunge, M. Delalande, X. Chevalier, R. Tiron, et al.. Self assembly patterning using block copolymer for advanced CMOS Technology : optimisation of plasma etching processes. SPIE, 2012, United States. pp.83280M, ⟨10.1117/12.916399⟩. ⟨hal-00944979⟩
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