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Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Self assembly patterning using block copolymer for advanced CMOS Technology : optimisation of plasma etching processes

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00944979 , version 1 (11-02-2014)

Identifiants

Citer

T. Chevolleau, G. Cunge, M. Delalande, X. Chevalier, R. Tiron, et al.. Self assembly patterning using block copolymer for advanced CMOS Technology : optimisation of plasma etching processes. SPIE, 2012, United States. pp.83280M, ⟨10.1117/12.916399⟩. ⟨hal-00944979⟩
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