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Communication Dans Un Congrès Année : 2001

Time−Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00944972 , version 1 (11-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00944972 , version 1

Citer

S. Banna, A. Agarwal, T. Lill, Maxime Darnon, G. Cunge, et al.. Time−Modulation of High density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes. 4th PESM workshop, May 2001, Belgium. ⟨hal-00944972⟩
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