Article Dans Une Revue
Journal of Physics D: Applied Physics
Année : 2004
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00944895
Soumis le : mardi 11 février 2014-13:54:01
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:16:44
Citer
M. Kogelschatz, G. Cunge, N. Sadeghi. Identification of halogen containing radicals in silicon etching plasmas and density measurement by UV broad band absorption spectroscopy. Journal of Physics D: Applied Physics, 2004, 37 (14), pp.1954. ⟨10.1088/0022-3727/37/14/010⟩. ⟨hal-00944895⟩
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