Growth and Characterization of Si/SiGe Axial NWs for TFET application - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Growth and Characterization of Si/SiGe Axial NWs for TFET application

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00944270 , version 1 (10-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00944270 , version 1

Citer

P. Periwal, T. Baron, F. Bassani, L. Latu-Romain, B. Salem, et al.. Growth and Characterization of Si/SiGe Axial NWs for TFET application. E- Materials Research Society, Fall Meeting, Sep 2013, warsaw, Russia. ⟨hal-00944270⟩
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